高濃度納米粒度儀的主要用途
更新時(shí)間：2023-10-10 點(diǎn)擊次數(shù)：1011
APS從聲衰減光譜測(cè)量產(chǎn)生PSD數(shù)據(jù)，不需要稀釋樣品。APS還測(cè)量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導(dǎo)率和溫度。當(dāng)聲音穿越泥漿或膠體時(shí)，是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關(guān)。APS可在1-100MHz的頻率范圍內(nèi)非常準(zhǔn)確地測(cè)量聲音衰減。因?yàn)槁曇舸┻^所有的物質(zhì)媒介，APS聲音衰減的測(cè)量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進(jìn)行。粒子沉降并不是一個(gè)問題，因?yàn)樵跍y(cè)量時(shí)樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢(shì)水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。
APS取樣分析是快速和容易的，無需稀釋樣品。稀釋樣品費(fèi)時(shí)，容易出錯(cuò)，并可能改變樣品的實(shí)際PSD。簡(jiǎn)單地倒，或者連續(xù)泵送樣品進(jìn)入到APS的樣品室，APS的直觀的軟件在幾分鐘內(nèi)做玩余下的工作。計(jì)算詳細(xì)PSD數(shù)據(jù)的技術(shù)，不需要假設(shè)PSD形狀。其他類型的儀器，例如光散射，意味著軟件或操作者假設(shè)或猜測(cè)PSD是單峰、雙峰、對(duì)數(shù)正態(tài)或高斯分布的。這種假設(shè)可能導(dǎo)致數(shù)據(jù)不可靠。
主要用途：
1)半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)料漿；
2)陶瓷；
3)油墨；
4)乳劑穩(wěn)定性；
5)藥品；
6)生物膠體；
7)熒光粉；
8)有機(jī)和無機(jī)顏料如Ti02和炭黑；
9)催化劑；
10)礦物；
11)聚合物乳液；
12)水和非水分散體系。
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